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线路板厂如何选用干膜?在操作干膜时有哪些注意事项?

文章出处:诚暄线路板 人气:作者:小编 发表时间:2019-09-25 18:01:05
干膜是一种高分子的化合物,它通过紫外线的照射后能够产和一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面,从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能。

  干膜通常用在外层曝光,曝光能量低,干膜(Dry film)在涂状中是相对湿膜(Wet film)而言的,干膜是一种高分子的化合物,它通过紫外线的照射后能够产和一种聚合反应形成一种稳定的物质附着于板面,从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能,下面小编来详细的说一说如何选用干膜和操作干膜时的注意事项。
线路板干膜介绍

  如何选用干膜:

  1、外观使用干膜时,首先应进行外观检查。质量好的干膜必须无气泡、颗粒、杂质;抗蚀膜厚度均匀;颜色均匀一致;无胶层流动。如果干膜存在上述要求中的缺陷,就会增加图像转移后的修版量,严重者根本无法使用。膜卷必须卷绕紧密、整齐,层间对准误差应小于1mm。

  这是为了防止在贴膜时因卷绕误差而弄脏热压辊,也不会因卷绕不紧而出现连续贴膜的故障。聚酯薄膜应尽可能薄,聚酯膜太厚会造成曝光时光线严重散射,而使图像失真,降低干膜分辨率。聚酯薄膜必须透明度高,否则会增加曝光时间。聚乙烯保护膜厚度应均匀,如厚度不均匀将造成光致抗蚀层胶层流动,严重影响干膜的质量。

  2、光致抗蚀层的厚度一般在产品包装单或产品说明书上都标出光致抗蚀层的厚度,可根据不同的用途选用不同厚度的干膜。如印制蚀刻工艺可选光致抗蚀层厚度为25μm的干膜,图形电镀工艺则需选光致抗蚀层厚度为40μm的干膜。如用于掩孔,光致抗蚀层厚度应达到50μm。

  如镀厚金板还得选用50μm的专用镀金干膜,一般情况下,40μm的干膜都可以满足正常的要求,在一些厂家,40μm的干膜都可以做线宽线隙为3mil的平行线了,掩孔方面,也可掩住4.5mm以下的孔,当然,对那些线路简单而掩5.0mm以上的孔,最好选用50μm的干膜.有一些板,线路很密,要掩的npth孔又都超过5.0mm,这时候可以考虑用40μm的干膜,再进行二次钻孔了(既蚀刻后钻孔).

  3、分辩率所谓分辨率是指在1mm的距离内,干膜抗蚀剂所能形成的线条(或间距)的条数,分辨率也可以用线条(或间距)绝对尺寸的大小来表示。干膜的分辨率与抗蚀剂膜厚及聚酯薄膜厚度有关。抗蚀剂膜层越厚,分辨率越低。

  光线透过照相底版和聚酯薄膜对干膜曝光时,由于聚酯薄膜对光线的散射作用,使光线侧射,因而降低了干膜的分辨率,聚酯薄膜越厚,光线侧射越严重,分辨率越低。一般的聚酯薄膜都在25μm左右.

  4、耐蚀刻性和耐电镀性光聚合后的干膜抗蚀层,应能耐三氯化铁蚀刻液、过硫酸铵蚀刻液、酸性氯化铜蚀刻液、硫酸——过氧化氢蚀刻液的蚀刻。在上述蚀刻液中,当温度为50一55℃时,干膜表面应无发毛、渗漏、起翘和脱落现象。

  在酸性光亮镀铜、氟硼酸盐普通锡铅合金、氟硼酸盐光亮镀锡铅合金以及上述电镀的各种镀前处理溶液中,聚合后的于膜抗蚀层应无表面发毛、渗镀、起翘和脱落现象

  5、脱膜性能曝光后的干膜,经蚀刻和电镀之后,可以在强碱溶液中去除,一般采用3—5%的氢氧化钠溶液,加温至60℃左右,以机械喷淋或浸泡方式去除,去膜速度越快越有利于提高生产效率。去膜形式最好是呈片状剥离,剥离下来的碎片通过过滤网除去,这样既有利于去膜溶液的使用寿命,也可以减少对喷咀的堵塞。

  6、其它性能干膜在嚗光后,颜色应有明显的变化,这样就可以避免重复嚗光和漏曝光的错误,很多干膜都会添加变色剂来达到此功能。

  贴干膜时的注意事项:

  贴干膜时要掌握好的三个要素为压力、温度、传送速度。

  压力:新安装的贴膜机,首先要将上下两热压辊调至轴向平行,然后来用逐渐加大压力的办法进行压力调整,根据印制板厚度调至使干膜易贴、贴牢、不出皱折。一般压力调整好后就可固定使用,不需经常调整,一般线压力为0.5—0.6公斤/厘米。

  温度:根据干膜的类型、性能、环境温度和湿度的不同而略有不同。膜涂布的较干、环境温度低、湿度小时,贴膜温度要高些,反之可低些。贴膜温度过高,干膜图像变脆,耐镀性能差,贴膜温度过低,干膜与铜表面粘附不牢,在显影或电镀过程中,膜易起翘甚至脱落。通常控制贴膜温度在105℃左右。

  传送速度:与贴膜温度有关,温度高,传送速度可快些,温度低则将传送速度调慢。通常传送速度为0.9一1.8米/分。大批量生产时,在所要求的传送速度下,热压辊难以提供足够的热量,因此需给要贴膜的板子进行预热,即在烘箱中干燥处理后稍加冷却便可贴膜。

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